2 collu SiC vafeles 6H vai 4H daļēji izolējoši SiC substrāti Dia50,8 mm

Silīcija karbīda substrātu pēc pretestības var iedalīt vadošā un daļēji izolējošā veidā.Vadītspējīgas silīcija karbīda ierīces galvenokārt izmanto elektriskajos transportlīdzekļos, fotoelementu enerģijas ražošanā, dzelzceļa tranzītā, datu centros, uzlādes un citās infrastruktūrās.Elektrisko transportlīdzekļu nozarei ir milzīgs pieprasījums pēc vadošiem silīcija karbīda substrātiem, un šobrīd Tesla, BYD, NIO, Xiaopeng un citi jaunu enerģijas transportlīdzekļu uzņēmumi ir plānojuši izmantot silīcija karbīda diskrētas ierīces vai moduļus.

Daļēji izolētas silīcija karbīda ierīces galvenokārt izmanto 5G sakaros, transportlīdzekļu sakaros, valsts aizsardzības lietojumos, datu pārraidē, aviācijā un citās jomās.Audzējot gallija nitrīda epitaksiālo slāni uz daļēji izolētā silīcija karbīda substrāta, uz silīcija bāzes izgatavoto gallija nitrīda epitaksiālo plāksni var tālāk pārveidot par mikroviļņu RF ierīcēm, kuras galvenokārt izmanto RF jomā, piemēram, jaudas pastiprinātājus 5G komunikācijā un radiodetektori valsts aizsardzībā.

Silīcija karbīda substrāta izstrādājumu ražošana ietver iekārtu izstrādi, izejvielu sintēzi, kristālu augšanu, kristālu griešanu, vafeļu apstrādi, tīrīšanu un testēšanu, kā arī daudzas citas saites.Runājot par izejvielām, Songshan Boron nozare nodrošina tirgum silīcija karbīda izejvielas un ir sasniegusi nelielu partiju pārdošanu.Trešās paaudzes pusvadītāju materiāliem, ko pārstāv silīcija karbīds, ir galvenā loma mūsdienu rūpniecībā, un, paātrinoties jaunu enerģijas transportlīdzekļu un fotoelektrisko lietojumu iespiešanās procesam, pieprasījums pēc silīcija karbīda substrāta drīzumā parādīs lēciena punktu.