8 collu 200 mm silīcija karbīda SiC vafeles 4H-N tipa Ražošanas pakāpe 500 um biezums

Īss apraksts:

Shanghai Xinkehui Tech.Co., Ltd piedāvā labāko izvēli un cenas augstas kvalitātes silīcija karbīda plāksnēm un substrātiem ar diametru līdz 8 collām ar N- un daļēji izolējošiem veidiem.Mazie un lielie pusvadītāju ierīču uzņēmumi un pētniecības laboratorijas visā pasaulē izmanto mūsu silikona karbīda plāksnes un paļaujas uz tām.

Nosūtiet mums e-pastu

Produkta informācija

Produktu etiķetes

200 mm 8 collu SiC substrāta specifikācija

Izmērs: 8 collas;

Diametrs: 200mm±0,2;

Biezums: 500um±25;

Virsmas orientācija: 4 virzienā uz [11-20]±0,5°;

Iecirtuma orientācija: [1-100]±1°；

Izgriezuma dziļums: 1±0,25 mm；

Mikrocaurule: <1cm2;

Hex plāksnes: nav atļauts;

Pretestība: 0,015 ~ 0,028Ω;

EPD:<8000cm2;

TED: <6000cm2

BPD: <2000 cm2

TSD: <1000cm2

SF: platība <1%

TTV≤15um；

Izliekums≤40um；

Loks≤25um；

Poli laukumi: ≤5%;

Skrāpējums: <5 un kumulatīvs garums< 1 vafeles diametrs;

Šķembas/ievilkumi: nav pieļaujams D>0,5 mm platums un dziļums;

Plaisas: nav;

Traipu: nav

Vafeļu mala: Noslīde;

Virsmas apdare: Double Side Polish, Si Face CMP;

Iepakojums: vairāku vafeļu kasešu vai viena vafeļu konteiners;

Pašreizējās grūtības 200 mm 4H-SiC kristālu sagatavošanā galvenokārt

1) augstas kvalitātes 200mm 4H-SiC sēklu kristālu sagatavošana;

2) Liela izmēra temperatūras lauka nevienmērības un kodolu veidošanās procesa kontrole;

3) Gāzveida komponentu transportēšanas efektivitāte un attīstība liela izmēra kristālu augšanas sistēmās;

4) Kristālu plaisāšana un defektu izplatīšanās, ko izraisa liela izmēra termiskā sprieguma pieaugums.

Lai pārvarētu šīs problēmas un iegūtu augstas kvalitātes 200 mm SiC vafeļu risinājumus, tiek piedāvāti:

Attiecībā uz 200 mm sēklu kristālu sagatavošanu tika pētīts un izstrādāts atbilstošas temperatūras lauka plūsmas lauks un paplašināšanas komplekts, lai ņemtu vērā kristāla kvalitāti un izplešanās izmēru;Sākot ar 150 mm SiC se:d kristālu, veiciet sākuma kristāla iterāciju, lai pakāpeniski paplašinātu SiC kristalizāciju, līdz tas sasniedz 200 mm;Izmantojot daudzkārtēju kristālu augšanu un apstrādi, pakāpeniski optimizējiet kristāla kvalitāti kristāla izplešanās zonā un uzlabojiet 200 mm sēklu kristālu kvalitāti.

Attiecībā uz 200 mm vadītspējīgu kristālu un substrāta sagatavošanu pētījumi ir optimizējuši temperatūras lauka un plūsmas lauka dizainu liela izmēra kristālu augšanai, 200 mm vadītspējīgu SiC kristālu augšanai un dopinga viendabīguma kontrolei.Pēc rupjas kristāla apstrādes un formēšanas tika iegūts 8 collu elektriski vadošs 4H-SiC lietnis ar standarta diametru.Pēc griešanas, slīpēšanas, pulēšanas un apstrādes, lai iegūtu SiC 200 mm vafeles ar biezumu 525 um vai vairāk